The wet processing company

WBM

手动湿法工作台

清洗、刻蚀或去光阻——湿法化学工艺是半导体工业、微系统技术和太阳能技术的基础。RENA WBM 湿法工作台的模块化设计能够灵活适应实验室和工业生产环境中的特定工艺要求。根据客户要求,RENA WBM 湿法槽可以由 PP、PPs、PVDF、ECTFE、石英和不锈钢等材料制成。

 

客制化工艺整合

少量生产或研发需要能够快速适应多变条件的灵活生产工艺。为此我们设计了可手动操作的RENA WBM 湿法工作台。其模块化结构允许个性化适应创新工艺和整合更多选项,如电导率测量、空气过滤(FFU)、甩干机 (SRD)。

占地面积小、易于维护和方便操作降低了工艺整合的难度。附加工艺步骤(如晶片干燥或旋转)可轻松纳入。RENA WBM 湿法工作台特别适用于电镀工艺的预处理和后处理,并且与 RENA EPM 系统兼容。无论是半导体工业、微系统技术还是太阳能技术,RENA WBM 手动湿法工作台可灵活融入任何湿法化学工艺环境。

RENA WBM 的优点一览

  • 丰富的材料选择:PP、PPS、PVDF、ECTFE、不锈钢、石英
  • 模块化设计
  • 高可靠性
  • 占地面积非常小
  • 易于维护
  • 方便操作员使用
  • 适用于 2" 到 12" 晶片或特殊的晶片几何形状
  • 附加电镀模块
销售经理
Bernard Winker
负责 :
全球