链式结隔离和背面抛光

InOxSide Fusion 技术组合结隔离和背面抛光,为出色的表面钝化创造理想的前提条件。全新碱性抛光接合工艺尽可能减少单一机器的酸用量,实现极低的拥有成本并提升效率。这款节省空间的解决方案是新一代获得专利的可靠的 RENA 单面刻蚀技术。RENA 为市面上单面碱性刻蚀提供唯一的单机床解决方案。

特点与优势

  • 高通量链式单面处理
  • 单机床解决方案
  • HNO3 用量减少近50%(用于 PERC)
  • 无 H2O2 工艺
  • CoO 极低
  • 获得专利的链式碱性工艺
  • 高质量平整
  • 适合所有相关钝化层,包括 AlOx
  • 背面磷和硼发射极刻蚀

选项

  • RENA RaPID(RENA 防 PID 解决方案)
  • 用于工艺控制的链式反射测量

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光伏销售总监
Dr.-Ing. Ulrich Jäger
负责负责对于以下国家:
全球