The wet processing company

BatchEtch

硅太阳能电池刻蚀

RENA BatchEtch N 自动化处理设备用于硅太阳能电池的批次式刻蚀工艺。根据客户要求,可提供碱性与酸性工艺。清洁步骤也可集成至工具内。该设备基于 RENA Batch N 平台。

 

 

特点和优势

  • 在批次式工艺中实现全自动损伤层去除 (SDR)
  • 利用碱性(例如 KOH)或酸性溶液(例如 HF/HNO3)刻蚀
  • 视配置而定,产能高达 8000 片/小时
  • 集成冲洗与干燥晶圆
  • 借助 Bleed + Feed(分供)功能延长蚀槽寿命
  • 前/后清洗可集成至工具
  • 箱内箱式设计改善工艺均匀度并降低空间需求
  • 同类最佳计量系统,确保精确、稳定的槽液组成
  • 使用无压条载片装置
  • 破损率业界最低
  • 易于维护
  • 可提供 BatchEtch N400(每个蚀槽 400 片)、N200(每个蚀槽 200 片)或 N50(每个蚀槽 50 片)

选项

  • 可适用于薄至 100 µm 的硅片
  • 计量秤:自动刻蚀量测量
  • MES 接口 (SECS/GEM)
  • 用于缓冲载片装置的装卸扩展
  • 用于化学品供应的介质柜
  • 针对化学品排出/废水的废物泵出站
  • 过滤器风扇单元(“通风箱”)
  • 工艺控制传感器(例如 pH 值、电导率)