硅太阳能电池刻蚀
RENA BatchEtch N 自动化处理设备用于硅太阳能电池的批次式刻蚀工艺。根据客户要求，可提供碱性与酸性工艺。清洁步骤也可集成至工具内。该设备基于 RENA Batch N 平台。
特点和优势
- 在批次式工艺中实现全自动损伤层去除 (SDR)
- 利用碱性（例如 KOH）或酸性溶液（例如 HF/HNO3）刻蚀
- 视配置而定，产能高达 8000 片/小时
- 集成冲洗与干燥晶圆
- 借助 Bleed + Feed（分供）功能延长蚀槽寿命
- 前/后清洗可集成至工具
- 箱内箱式设计改善工艺均匀度并降低空间需求
- 同类最佳计量系统，确保精确、稳定的槽液组成
- 使用无压条载片装置
- 破损率业界最低
- 易于维护
- 可提供 BatchEtch N400（每个蚀槽 400 片）、N200（每个蚀槽 200 片）或 N50（每个蚀槽 50 片）
选项
- 可适用于薄至 100 µm 的硅片
- 计量秤：自动刻蚀量测量
- MES 接口 (SECS/GEM)
- 用于缓冲载片装置的装卸扩展
- 用于化学品供应的介质柜
- 针对化学品排出/废水的废物泵出站
- 过滤器风扇单元（“通风箱”）
- 工艺控制传感器（例如 pH 值、电导率）
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