The wet processing company

BatchClean

High-End-Reinigung für High-End-Produkte

Die automatische Verarbeitungsanlage RENA BatchClean N wird zur Reinigung großer Mengen von Silizium-Solarzellen eingesetzt. Je nach Kundenanforderungen sind eine Vielzahl alkalischer oder saurer Prozesse verfügbar. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA Batch N-Plattform entwickelt.

 

Funktionen und Vorteile

  • Vollautomatische, nasschemische Reinigung in einem Massenverarbeitungsprozess
  • Große Vielzahl verschiedener Reinigungslösungen verfügbar: RCA, sauer, alkalische, ozonbasiert, …
  • Durchsatz von bis zu 8000 Wafern/Stunde je nach Konfiguration
  • Integrierte Spülung und Trocknung von Wafern
  • Lange Lebensdauer des Bades dank Feed-and-Bleed-Funktion
  • Tank-in-Tank-Design für eine verbesserte Prozesshomogenität und einen reduzierten Platzbedarf
  • Bestes Dosierungssystem für eine genaue und konstante Zusammensetzung des Bades
  • Träger ohne Niederhalter
  • Branchenweit geringste Bruchraten
  • Einfache Wartung
  • Verfügbar als BatchClean N400 (400 Wafer pro Bad), N200 (200 Wafer pro Bad) oder N50 (50 Wafer pro Bad)

Optionen

  • Anpassung für dünne Wafer bis 100 µm
  • MES-Schnittstelle (SECS/GEM)
  • Lade- und Entladeerweiterung für Pufferträger
  • Medienschrank für Chemikalienversorgung
  • Abpumpstation für die Entfernung der Chemikalien/des Abwassers
  • Filter-Gebläseeinheiten („Flowboxes“)
  • Sensoren für die Prozesssteuerung (z. B. pH, Leitfähigkeit)