Reinigung von Saphirbruch

 

 

Auf Grundlage der langjährigen Erfahrung mit der Bereitstellung von Reinigungslösungen für die Halbleiter- und Photovoltaikbranche bietet RENA hochspezialisierte Lösungen für die Saphirindustrie an. Batch Clean wurde speziell entwickelt, um zerkleinertes Saphirmaterial zu bearbeiten und von Metall zu befreien.

Batch Clean
  • Speziell für die Reinigung von Saphirmaterial entwickelte Anlage
  • Sanfte Materialbearbeitung in Körben
  • Hohe Reinigungseffizienz
  • Ausgefeilte Strömungsdynamik und optimierter Austausch von Chemikalien
  • Offenes, feinmaschiges Korbdesign
  • Erzwungene Konvektion und Austausch der Medien über den kompletten Inhalt des Korbes hinweg
  • Flexible Prozesszeiten

Die sanfte Bearbeitung des zerkleinerten Materials erfolgt in feinmaschigen Körben. Das spezielle Korbdesign, die ausgefeilte Strömungsdynamik im Bad sowie die vertikale Pendelbewegung der Körbe stellen die Konvektion und den Austausch der Medien und somit eine große Effizienz bei der Reinigung des zerkleinerten Saphirmaterials sicher. Prozessdämpfe werden über ein effizientes Abluftsystem sicher abgeleitet. Der flexible und einfache Aufbau der Reinigungslinie ermöglicht unterschiedliche Prozesszeiten und einen skalierbaren Durchsatz.

 

ZuständigZuständig für folgende Länder:
Weltweit