The wet processing company

WBM

Manuelle Nassbank

Reinigen, ätzen oder strippen - nasschemische Prozesse bilden die Grundlage der Halbleiter-Industrie, Mikrosystemtechnik und Solartechnologie. Das modulare Design der RENA WBM Nassbank erlaubt die flexible Anpassung an prozessspezifische Anforderungen in Labors und industrielle Produktionsumgebungen. Den Kundenanforderungen entsprechend kann die RENA WBM Nassbank aus den Materialien PP, PPs, PVDF, ECTFE, Quartz und Edelstahl gefertigt werden. 
 

Individuelle Prozessintegration

Kleinstmengenproduktionen oder Entwicklungen für die Forschung benötigen flexible Fertigungsprozesse, die sich schnell an veränderliche Bedingungen anpassen lassen. Zu diesem Zweck haben wir die manuell bedienbare RENA WBM Nassbank entworfen. Ihr modularer Aufbau erlaubt die individuelle Anpassung an innovative Prozesse und die Integration weiterführender Optionen wie Leitfähigkeitsmessung, Flow-Box oder Spin Rinse Dryer (SRD).

Eine geringe Standfläche, der einfache Wartungszugang und die bedienerfreundliche Handhabung erleichtern die Prozessintegration. Zusätzliche Verfahrensschritte, etwa das Trocknen oder Schleudern von Wafern, können ohne Probleme angeschlossen werden. Die RENA WBM Nassbank eignet sich hervorragend zur Vor- und Nachbehandlung für Galvanisierungsverfahren und ist kompatibel mit dem RENA EPM System. Ob Halbleiter-Industrie, Mikrosystemtechnik oder Solartechnologie, die manuelle RENA WBM Nassbank passt sich in jede nasschemische Prozessumgebung flexibel ein.

Die Vorteile der RENA WBM im Überblick

  • große Materialauswahl: PP, PPS, PVDF, ECTFE, Edelstahl, Quarz
  • modulares Design
  • hohe Zuverlässigkeit
  • sehr geringe Standfläche
  • einfacher Wartungszugang
  • bedienerfreundliche Handhabung
  • geeignet für 2"- bis 12"-Wafer oder spezielle Wafer-Geometrien
  • zusätzliche Plattiermodule
Zuständig :
Weltweit