Genesis-Standalone-Marangoni-Trockner

 

Der Genesis-Marangoni-Trockner von RENA verbindet das Trocknen mit dem Reinigen und Spülen und ermöglicht damit einen Einschrittprozess. Die Wafer-Trocknung mit dem Genesis-Marangoni-Trockner von RENA setzt auf proprietäres Design mit Waferheber und integrierter Kippfunktion, um sicherzustellen, dass die Vorderseite des Wafers die Teflonkassette während des Trocknungszyklus nicht berührt. Die Kippfunktion minimiert auch den Kontakt auf der Rückseite des Wafers. Genesis-Marangoni-Trockner sind kompatibel mit Wafern aus reinem Silizium, Siliziumdioxid, GaAs, Germanium, Saphir sowie Glas. Der gesamte Prozess wird mittels der exklusiven IDX Process Control Software von RENA überwacht und gesteuert.

 

Ausbringung verbessern, Partikel reduzieren — der Marangoni-Trockner von RENA bietet überragende Leistung

Funktionen und Vorteile

  • Manuell beladene Kassetten oder optional eine automatisierte Wafer-Bedienung mit Roboter
  • Teflonkassetten
  • Substrate sind nach der Trocknung frei von Wasserflecken
  • Ermöglicht chemische Reinigung vor dem Trocknen ohne Luftschnittstelle
  • Keine Beschädigung der empfindlichen Fotolackschichten während des Trocknungsprozesses
  • Partikelleistung < 50 bei 120 nm
  • Trocknet hydrophobe und hydrophile Oberflächen
  • Kein Drehen des Wafers
  • Kombination aus O3-, HF- oder HCl-Injektionen für kritische Reinigungsanwendungen für qualitativ hochwertige Oberflächen
  • HF letzte Anwendungen
  • Typische Zyklusdauer 7-20 Minuten
  • Fortschrittliche Leistungs- und Prozesssteuerung mit IDX-Flexware
  • Hostkompatibel
  • Integrierte DI-Wasserfilteroption
  • Optionale chemische Injektion
  • Geringer IPA-Verbrauch (≤ 20 ml je Trocknungszyklus)
  • Optionale IPA-Rezirkulation für eine solidere Partikelleistung
  • Lösungen für Wafer von 50-200 mm (2-8” Wafer)
  • CE-Zertifizierung
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Telefon : +49 7723 9313-0