FluidJetTM - fortschrittlicher Tauchtank für die Resist- und Metall-Abhebung

In der Mikrostrukturierungstechnologie wird das Metall-Lift-off-Verfahren zur Strukturierung von Halbleitersubstraten für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen (ICs) und anderen mikroelektronischen Bauteilen verwendet. Zu diesem Zweck bietet RENA die einzigartige FluidjetTM-Tauchtanktechnologie an, die eine zuverlässige, verbesserte Abhebeleistung zusammen mit einem erhöhten Durchsatz bietet. Diese herausragende Abtragsleistung wird durch den Einsatz präziser hydraulischer Kräfte in Kombination mit Roboterbewegung erreicht. Die FluidjetTM-Tanktechnologie kann in unsere voll- und halbautomatischen Nassbänke integriert werden. RENA's Metallabhebetankdesign wurde in den USA, Europa und Asien patentiert und geschützt.

Funktionen und Vorteile

  • Niedrigere Kosten und höherer Durchsatz als bei der Verarbeitung einzelner Wafer
  • Über 99 % Rückgewinnung von Edelmetallen
  • Verbesserte Lift-Off-Leistung
  • Keine erneute Metallabscheidung
  • Keine erneute Abscheidung auf der Rückseite
  • Geringere Beschädigung
  • 80 % weniger Chemikalieneinsatz
  • Keine komplexe Waferhandhabung
  • Kleine Stellfläche
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