Was ist DI-Wasser?
DI Wasser bedeutet deionisiertes Wasser. Die Salze, Ionen oder Mineralien, die im normalen Quell- und Leitungswasser vorkommen, sind in deionisiertem Wasser nicht vorhanden. Das DI Wasser besitzt eine besonders geringe Leitfähigkeit.
Bei RENA Technologies wird es im Trocknungsverfahren von Wafern (z.B. Siliciumkarbid/SiC Wafer, Glaswafer) beim Prozess der Wafer Herstellung eingesetzt.
Wie wird DI-Wasser hergestellt?
Durch Umkehrosmose, Elektrodeionisation, Membranentgasung oder den Einsatz von Ionenaustauschern wird aus Trinkwasser DI-Wasser gewonnen. Dadurch werden die Salze, die im Ausgangswasser vorhanden sind, vollständig entfernt oder durch Ionen gleicher Art ersetzt. So werden zum Beispiel die Calcium-Ionen, die im Leitungswasser gelöst sind, durch Natrium-Ionen ersetzt.
Wo wird DI Wasser eingesetzt?
DI-Wasser wird in der Medizin, Biologie und Chemie verwendet, um Anlagen und Behälter zu reinigen. Es entstehen keine Rückstände von Kalk und ist ideal für die Reinigung von Oberflächen und Materialien in Reinräumen. Allerdings muss man berücksichtigen, dass reines Wasser eine beschränkte Haltbarkeit hat.
Wofür wird DI Wasser bei RENA verwendet?
Bei der Herstellung von Halbleitern, Mikrochips und Solarzellen wird es verwendet, um Wafer zu trocknen. Schleudertrocknen ist eine der gängigen Methoden zur Trocknung von Wafern (z.B. Siliciumkarbid/SiC-Wafer, Glasswafer) in der Halbleiterproduktion. Nachdem die Wafer mit hochreinem deionisiertem Wasser (DI) unter Stickstoff (N2) gespült worden sind, erfolgt bei dieser Methode eine schnelle mechanische Drehung um eine Achse senkrecht zur Oberfläche der Wafer. Heißwassertrockner sind ebenfalls weit verbreitet und kommen in der Halbleiter- und der Solarzellenproduktion zum Einsatz.
Welche Trocknungsplattformen werden bei RENA Technologies eingesetzt?
RENA Technologies liefert unter anderem an Unternehmen im Bereich der Microchip Fertigung und Solarzellen Fertigung. Die Produktionsanlagen zur nasschemischen Oberflächenbehandlung von Wafern bei RENA bieten verschiedene Arten von integrierten und eigenständigen Wafer-Trocknungsplattformen zur Wafer Trocknung an:
SRD Trocknung, VaporDry sowie der Genesis Marangoni Dryer, der von RENA patentierte Trockner, der auf dem Marangoni-Effekt basiert.
