Einführung von Vanguard: Das neue Single-Wafer-Reinigungs- und Ätzsystem von RENA Technologies

RENA Technologies setzt einen neuen Meilenstein in der Halbleiterindustrie mit der Einführung von Vanguard, einer hochmodernen, vollautomatisierten Single-Wafer-Plattform für nasschemische Reinigung, Ätzung und Trocknung von 200-mm- und 300-mm-Wafern. Entwickelt für höchste Leistung, Effizienz und Skalierbarkeit eröffnet Vanguard neue Möglichkeiten für die fortschrittliche Halbleiterfertigung.

Neue Möglichkeiten in der Wafer-Nassprozessierung

Vanguard wurde speziell entwickelt, um den steigenden Anforderungen zukünftiger Halbleitersubstrate und Materialien gerecht zu werden. Mit der Unterstützung von vier bis acht unabhängigen Prozesskammern in einem kompakten Footprint ermöglicht das System einen hohen Durchsatz, ohne zusätzlichen Reinraumplatz zu beanspruchen. Die fortschrittliche chemische Reinigung und doppelseitige Bearbeitung – mit bis zu fünf verschiedenen Chemikalien – minimiert Kontamination, Substratschäden und Defekte und stellt sicher, dass Wafer die anspruchsvollen Ausbeute- und Qualitätsanforderungen modernster Chipfertigung erfüllen.

„Mit der Einführung unserer neuen Plattform für die nasschemische Halbleiterprozessierung betreten wir eine neue Ära in Präzision, Effizienz und Zuverlässigkeit für die fortschrittliche Chipfertigung. Diese Anlage verkörpert unser Engagement für Innovation – sie bietet nicht nur überlegene Prozesskontrolle, sondern auch die Flexibilität, die unsere Kunden benötigen, um in einer sich schnell entwickelnden Branche an der Spitze zu bleiben. Sie stellt einen entscheidenden Schritt dar, um die nächste Generation von Halbleitertechnologien sowohl für Hochvolumenfertigungslinien als auch für F&E-Fabs zu ermöglichen“, betont Peter Schneidewind, CEO von RENA Technologies.

Skalierbares, modulares Design

Die modulare Architektur von Vanguard wächst mit den Anforderungen der Kunden. Fabs können die Anzahl der Kammern und die Prozesskonfigurationen flexibel anpassen – von der Forschung und Entwicklung bis hin zur Hochvolumenproduktion.

Die Plattform integriert ein internes Chemikalien-Ansatzsystem zur präzisen Formulierungssteuerung, was eine gleichbleibende Prozessqualität gewährleistet und gleichzeitig den Chemikalienverbrauch reduziert. Dies senkt Betriebskosten und Umweltbelastung – entscheidende Faktoren für nachhaltige Fabriken.

Auch die Wartungsfreundlichkeit ist integraler Bestandteil des Designs: Jede Kammer arbeitet unabhängig, sodass Servicearbeiten durchgeführt werden können, ohne die Produktion zu stoppen. In Kombination mit KI-gestützter Prozesskontrolle und der digitalen Serviceplattform RENA Connect Hub profitieren Kunden von maximaler Anlagenverfügbarkeit und Effizienz.

Automatisierung und Kompatibilität auf nächstem Niveau

Dank digitaler Zwillinge können Kunden die Systemintegration modellieren, Schnittstellen testen und sogar den Durchsatz mit realen Prozessdaten simulieren – lange vor der Installation. Schulungen und Upgrades lassen sich nahtlos während des laufenden Betriebs durchführen.

Vollständig GEM300-kompatibel ist Vanguard ab Tag eins bereit für die Fabrikintegration. Der Betrieb in einer Class-1-Mini-Umgebung garantiert ultrareine Waferhandhabung, während die fortschrittliche Trocknungstechnologie rückstandsfreie, makellose Oberflächen für nachgelagerte Prozesse sicherstellt.

Wichtige Merkmale im Überblick

• Vollautomatisierte Nassprozessierung für 200-mm-/300-mm-Wafer
• Skalierbar von 4 bis 8 Single-Wafer-Kammern
• Doppelseitige Reinigung mit bis zu 5 Chemikalien
• Internes Chemikalien-Ansatzsystem
• KI-gestützte Software mit vorausschauender Wartung
• Fortschrittliche Trocknungstechnologie
• Class-1-Mini-Umgebung für ultrareinen Betrieb
• Kompakter Footprint bei hoher Durchsatzleistung
• GEM300-fähig für nahtlose Fabrikintegration
• Geringer Chemikalienverbrauch zur Reduktion von Kosten und Umweltbelastung

Verfügbarkeit

Vanguard ist ab sofort offiziell verfügbar. Halbleiterfabriken und Foundries, die ihre Nassprozessierung modernisieren möchten, erhalten nun Zugriff auf eine Lösung, die Leistung, Skalierbarkeit und Nachhaltigkeit vereint – und heute schon auf die Herausforderungen von morgen ausgelegt ist.