纹理化腐蚀

碱性纹理化腐蚀目前仍是硅基太阳能电池技术中非常先进的技术可实现太阳能电池的高效率。裁切好的硅晶片在清洗完成后将接受碱性纹理化腐蚀。纹理化过程会蚀刻硅的表面形貌得到金字塔状凹凸。此形状会减少光反射增加硅材料的光吸收率提升太阳能电池的效率。

在没有任何添加剂的情况下硅片的表面在碱性工艺中只能进行平面蚀刻而添加剂会影响蚀刻方向。在各向异性蚀刻是首选的情况下使用像 monoTEX® 这样的纹理化腐蚀添加剂可获得均匀分布的金字塔状凹凸和低反射的蚀刻表面。

纹理化腐蚀添加剂

自 2008 年以来,RENA 内部开发的 monoTEX® 是同类产品中非常优质的碱性纹理化腐蚀调节剂和润湿剂。RENA 纹理化腐蚀添加剂 monoTEX® 是第一个不含 IPA、不易燃的添加剂,并且在远低于其成分沸点的温度下工作。因此,这种添加剂有助于提高生产过程的安全性,改进浴液稳定性、降低反射率和减少化学消耗。

monoTEX® 纹理化腐蚀添加剂目前与 NaOH 或 KOH 结合,用于碱性蚀刻,对 p 型或 n 型硅片进行切割。通过改变工艺参数(时间、碱性或添加剂浓度),可以很容易地调整蚀刻去除率和金字塔尺寸。

 

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