精准、快速的晶片制备
RENA 是湿法化学生产机器领域的全球市场领导者，旗下晶片制备设备是生产最优质产品级晶片的不二之选。该设备专为精准工艺监控、高产出率和灵活的生产工艺设计，可带/不带载片装置加工 200 mm 与 300 mm 晶片。RENA 晶片制备设备的生产质量与产量高，可灵活适应客户工艺。
高灵活性与工艺控制
制造晶片时，设备的高稳定性与均匀处理晶片表面极为关键。RENA 晶片制备设备配有快速变换输送系统，可在刻蚀槽内一秒切换晶片，由此赢得客户青睐。
200 与 300 mm 晶片的自动湿法工艺设备允许带/不带载片装置的工艺处理。此外，精准的工艺监控能准确追溯与记录整个生产期间的作业参数和工艺参数。
而且，该平台可灵活适应定制化工艺流程。25 或 50 个晶片同时经过刻蚀（Acid Etch）、抛光后清洁（Post Polish Clean）和最终清洁（Final Clean）作为标准化生产过程，整合为一条最佳工艺流程。
