RENA Inception 半自动单晶圆系统用于湿法化学清洁与刻蚀工艺，运行非常高效，其中包括冲洗步骤及旋转干燥。FEoL（酸）与 BEoL（溶剂）处理。双移动喷淋臂带有单独的化学管线，采用多重罐设计实现多步骤处理功能。亦可使用更多清洁选项，例如 Megasonic、浓度监控和终点检测等过程功能。针对各种晶圆和基片尺寸提供可变支架，可快速设置不同应用。IDX Flexware 软件中有众多有助于工艺控制及监控的功能。所有 RENA 系统皆可用，符合工厂设备的 SECS/GEM 界面。

清洁、蚀刻、剥离与干燥——实现从研发到试生产阶段的过渡。