Inception

 

RENA Inception 半自动单晶圆系统用于湿法化学清洁与刻蚀工艺,运行非常高效,其中包括冲洗步骤及旋转干燥。FEoL(酸)与 BEoL(溶剂)处理。双移动喷淋臂带有单独的化学管线,采用多重罐设计实现多步骤处理功能。亦可使用更多清洁选项,例如 Megasonic、浓度监控和终点检测等过程功能。针对各种晶圆和基片尺寸提供可变支架,可快速设置不同应用。IDX Flexware 软件中有众多有助于工艺控制及监控的功能。所有 RENA 系统皆可用,符合工厂设备的 SECS/GEM 界面。

 

清洁、蚀刻、剥离与干燥——实现从研发到试生产阶段的过渡。

特点与优势

  • 手动或自动晶圆处理
  • 晶圆可达 200 mm,光罩不超过 7 x 7 英寸
  • 单/双装载口
  • 物料用量少
  • 占地尺寸小
  • 高度灵活的软件保证快速制程开发
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