11. 07. 2025
Testen, Optimieren, Validieren – mit unseren Demo-Kapazitäten für Ihre Halbleiterprozesse
Suchen Sie nach Halbleiter-Demokapazitäten für Silizium, Verbindungshalbleiter oder Glaswafer?
Bei RENA bieten wir robuste Demo- und Foundry-Unterstützung für die Prozessvalidierung und -optimierung, zugeschnitten auf Ihre Substrat- und Anwendungsanforderungen.
Ganz gleich, ob Sie mit Silizium, Verbindungshalbleitern oder Glaswafern/-panels arbeiten, unsere speziellen Demolabore sind so ausgestattet, dass Sie Ihre Nassprozessschritte mit Präzision und Flexibilität validieren und verfeinern können.
Unsere Kernkompetenzen umfassen:
- Standardreinigungen, Ätzungen und Resiststreifen
- Beschädigungsfreies Batch Metal Lift-off (MLO) - ideal auch für empfindliche Wafer wie GaAs und InP
- TGV-Ätzen (Through Glass Via) für fortschrittliche Glaspanel-Anwendungen
- Nasses Ätzen zur Zugentlastung für SiC-Substrate
- Poröse Schichtbildung auf Si, SiC und III-V-Halbleitern
- Spezialisierte Post-CMP-Reinigung für kritische Oberflächenqualität
Demo-Laborausrüstung & Prozessumfang:
- Vollständig ausgestattet für die Bearbeitung von Wafern bis zu 200 mm
- Unterstützung für Batch-Tauch-, Sprüh- und Einzelwaferanwendungen
- Eigene Reinheitsprüfung, kritische Abmessungen (CD) und optische Metrologie
Sind Sie bereit für die Validierung oder Feinabstimmung Ihres nächsten Halbleiterprozesses?
Setzen Sie sich mit uns in Verbindung, um zu erfahren, wie unsere Demodienste Ihre Entwicklung mit Sicherheit beschleunigen können.
