The wet processing company

BatchTex

Klassenbeste Produktionsanlage

Die RENA BatchTex N Fertigungsanlage ist die erste Wahl, wenn eine Lösung für IPA-freie, alkalische Texturierungsprozesse für monokristallines Silizium (mono-Si) mit einem hohen Durchsatz und bester Qualität erforderlich ist. Die RENA monoTEX® Prozesstechnologie sorgt für erstklassige Texturierungergebnisse, und RENA BatchTex ist die branchenweit am häufigsten eingesetzte Lösung. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA Batch N-Plattform entwickelt.

Funktionen und Vorteile

  • Vollautomatische Entfernung von Sägeschäden und alkalische Texturierung für mono-Si in einem Massenverarbeitungsprozess
  • RENA monoTEX® Texturierungsprozess für höchste Qualität und Produktivität
  • Durchsatz von bis zu 8000 Wafern/Stunde je nach Konfiguration
  • Integrierte Reinigung, Spülung und Trocknung von Wafern
  • Lange Lebensdauer des Bades dank Feed-and-Bleed-Funktion
  • Tank-in-Tank-Design für eine verbesserte Prozesshomogenität und einen reduzierten Platzbedarf
  • Bestes Dosierungssystem für eine genaue und konstante Zusammensetzung des Bades
  • Träger ohne Niederhalter
  • Branchenweit geringste Bruchraten
  • Einfache Wartung
  • Verfügbar als BatchTex N400 (400 Wafer pro Bad), N200 (200 Wafer pro Bad) oder N50 (50 Wafer pro Bad)

Optionen

  • Anpassung für dünne Wafer bis 100 µm
  • Adaptierte Version für Silizium-Heteroübertragung (silicon heterojunction, SHJ) verfügbar
  • Waage: automatische Messung von Ätzverlusten
  • MES-Schnittstelle (SECS/GEM)
  • Lade- und Entladeerweiterung für Pufferträger
  • Medienschrank für Chemikalienversorgung
  • Abpumpstation für die Entfernung der Chemikalien/des Abwassers
  • Filter-Gebläseeinheiten („Flowboxes“)
  • Sensoren für die Prozesssteuerung (z. B. pH, Leitfähigkeit)