Inception - 半导体单晶片加工机床

RENA Technologies NA 的半导体专家为湿法加工平台系列开发了一款全新机床。以成熟可靠的浸洗和批量喷淋工艺而著称的 RENA 自豪地发布旗下新品——用于半导体加工的单晶片平台 Inception。

Inception 实现从研发到试生产阶段的过渡，同时适用于所有半湿法工艺，譬如清洁、刻蚀、剥离和干燥。

首台 Inception 单晶片机床已经交付给一家复合半导体领域的重要客户，该客户欲将其应用于酸洗流程中。

RENA Technologies NA 首席执行官 Ed Jean 说道：“正所谓‘一招鲜吃遍天’，批量浸洗、批量喷淋和单晶片机床其实在湿法加工领域都占据着一席之地。然而，大多数设备供应商选择提供一种通用方法，并试图将各类应用‘纳入’所提供的唯一平台中。随着 Inception 单晶片机床加入我们的产品线，RENA 为各类湿法清洁、刻蚀或剥离应用提供合适的平台。”

RENA Technologies NA 喷淋产品经理 Heath Phillips 表示：“对于需要利用烧杯和平盘执行测试的客户，Inception 单晶片平台为其提供连贯性以便形成制程记录 (POR) 并实现流程自动化。”

Inception单晶片机床的特点：

• FEoL（酸）和 BEoL（溶剂）加工应用
• 自动晶片搬运（可选配手动上料）
• 晶片最大可达 200 mm，光罩不超过 7 x 7
• 移动式双喷淋臂，配设独立的化学品管线
• 用于 DI 和 N2 的固定式底装喷头
• 与批量处理系统相比，刻蚀均匀性更高
• 标准双槽设计可实现多步骤处理（可选配 4 槽）
• 单/双装载口 (load port)
• 物料用量少
• 占地面积小 - 36" x 83" x 76"（宽 x 高 x 长）
• 高度灵活的软件保证快速制程开发