The wet processing company

InOxSide+

Klassenbeste Lösung für die Kantenisolierung, Politur und Glasentfernung

Die automatische Verarbeitungsanlage RENA InOxSide+® wurde als integrierte Lösung für die Kantenisolierung, Rückseitenpolitur und Entfernung von dotiertem Glas an Silizium-Solarzellen entwickelt. Dank eines Prozesses, der geringste Betriebskosten und die beste Leistung garantiert, bietet sich die InOxSide Technologie als beste Wahl bei der Herstellung von Al-BSF, PERC und PERT Silizium-Solarzellen an. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA NIAK Inline-Plattform entwickelt.

Funktionen und Vorteile

  • Vollautomatische, nasschemische, einseitige Ätzung in einem Inline-Prozess auf 5 Spuren
  • Einseitige Emitter-Ätzung, Rückseitenpolitur und Entfernung von dotiertem Glas (PSG/BSG)
  • Verwendung von HF/HNO3/H2SO4 für die einseitige Ätzung, wodurch bestmögliche Betriebskosten (Cost of Ownership, CoO) erreicht werden
  • RENA-patentierte Technologie
  • Einstellbare Rückseiten-Ätzung 1 bis 4 µm, bis zu 6 µm mit der Option RENA PreCon)
  • Integrierte Spülung und Trocknung von Wafern
  • Durchsatz bis zu 5000 Wafern/Stunde
  • Kompatibel mit Wafer-Größe M0, M1, M2 und M4
  • Lange Lebensdauer des Bades dank Feed-and-Bleed-Funktion
  • Akkurates Dosiersystem für eine konstante Zusammensetzung des Bades
  • Verwendung eines Rollendesigns ohne O-Ring
  • Branchenweit geringste Bruchraten
  • Basiert auf der RENA NIAK Inline-Verarbeitungsplattform
  • Hohe Verfügbarkeit
  • Einfache Wartung

Optionen

  • MES-Schnittstelle (SECS/GEM)
  • Medienschrank für Chemikalienversorgung
  • Abpumpstation für die Entfernung der Chemikalien/des Abwassers
  • Sensoren für die Prozesssteuerung (z. B. pH, Leitfähigkeit)
  • RENA RaPID (RENA Anti-PID-Lösung)

Produktvideo