The wet processing company

Wafering

Präzises, schnelles Wafering

Wafering-Anlagen von RENA, dem Weltmarktführer für nasschemische Produktionsmaschinen, sind die erste Wahl bei der Herstellung von Primewafern höchster Qualität. Ausgelegt auf ein präzises Prozessmonitoring, hohe Durchsatzraten und Flexibilität im Herstellungsprozess, verarbeiten die Anlagen 200-mm- und 300-mm-Wafer mit und ohne Carrier. RENA Wafering-Anlagen bieten eine hohe Produktionsqualität und -durchsatz bei flexiblen Möglichkeiten zur Anpassung an Kundenprozesse.

 

Hohe Flexibilität und Prozesskontrolle

Bei der Waferherstellung zählt hohe Stabilität der Anlage und homogenes Bearbeiten der Waferoberfläche. Hier brillieren RENA Wafering-Anlagen, die, ausgestattet mit einem Schnellumsetzer-Transportsystem, den Waferwechsel im Ätzbad in unter einer Sekunde vollziehen. 

Die automatischen Nassprozessanlagen für 200- und 300-mm-Wafer lassen eine Prozessierung mit und ohne Carrier zu. Das präzise Prozessmonitoring erlaubt zudem die exakte Nachverfolgung und Protokollierung sämtlicher Betriebs- und Prozessparameter während der Produktion.

Dabei lassen sich die Plattformen flexibel an kundenspezifische Prozessabläufe anpassen. 25 oder 50 Wafer durchlaufen so gleichzeitig das Ätzen (Acid Etch), die Reinigung nach dem Polieren (Post Polish Clean) und die Endreinigung (Final Clean) als einheitlichen Produktionsablauf in einem optimalen Prozessdurchlauf.

Die Vorteile der RENA Wafering Anlagen im Überblick

  • Präzises Prozessmonitoring für eine hohe Prozesskontrolle
  • Flexible Anpassung an exakte Produktionsvorgaben
  • Entspricht vollständig dem SEMI-Standard
  • Carrier-less- und Carrier-Prozessierung möglich
  • Hohe Durchsatzraten
  • Schnellumsetzer für Waferwechsel im Acid Etcher in unter 1 Sekunde
  • Flexible Ein- und Ausgabelösungen (FOUP, SMIF, Stocker, OHT, AGV)
Zuständig :
Weltweit