Dieser Cube verändert alles.

Next-generation Halbleiter basieren auf innovativen Verbindungshalbleitern wie Silicon Carbide (SiC), Gallium Nitride (GaN) und Indium Phosphide (InP). In diesen anspruchsvollen Anwendungen sind präzise Nassprozesse (wet processes) und eine kontrollierte Waferreinigung (wafer cleaning) entscheidend: Bereits kleinste Kontaminationen können die Performance, Reliability und Yield erheblich beeinflussen.

Stabile und reproduzierbare Ergebnisse in nasschemischen Prozessen wie Wet Etching, Cleaning, Stripping und Drying erfordern hochentwickelte nasschemische Anlagen (wet bench systems) sowie maximale Prozesskontrolle in der Halbleiterfertigung.

Die RENA Revolution+ ist eine kompakte, vollautomatische nasschemische Anlage (automatic wet bench) für die Batch-Tauchprozessierung von Wafern. Ausgestattet mit mehreren Prozessbädern ermöglicht sie präzise und effiziente Nassprozessierung (wet processing) auf kleinstem Raum.

Ideal für R&D, Pilot Lines sowie Advanced Semiconductor Manufacturing in den Bereichen Photonics, RF Components und Power Electronics, bietet die RENA Revolution+ höchste Flexibilität, Prozessstabilität und Wiederholgenauigkeit.

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