Dieser Cube verändert alles.

Halbleiter der nächsten Generation basieren auf innovativen Verbindungshalbleitern wie Silicon Carbide (SiC), Gallium Nitride (GaN) und Indium Phosphide (InP). In diesen anspruchsvollen Anwendungen sind präzise Nassprozesse (wet processes) und eine kontrollierte Waferreinigung (wafer cleaning) entscheidend: Bereits kleinste Kontaminationen können die Performance, Reliability und Yield erheblich beeinflussen.

Stabile und reproduzierbare Ergebnisse in nasschemischen Prozessen wie Nassätzen, Reinigen, Stripping und Trocknung erfordern hochentwickelte nasschemische Anlagen sowie maximale Prozesskontrolle in der Halbleiterfertigung.

Die RENA Revolution+ ist eine kompakte, vollautomatische nasschemische Anlage für die Batch-Tauchprozessierung von Wafern. Ausgestattet mit mehreren Prozessbädern ermöglicht sie präzise und effiziente Nassprozessierung auf kleinstem Raum.

Ideal für Forschung & Entwicklung, Pilotanlagen sowie die fortschrittliche Halbleiterfertigung in den Bereichen Photonik, HF-Komponenten und Leistungselektronik steht die Nassbank RENA Revolution+ für maximale Vielseitigkeit, Prozessstabilität und Reproduzierbarkeit – und ermöglicht es Herstellern, flexibel auf die Anforderungen der Technologien der nächsten Generation zu reagieren.

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