Für die Nassbearbeitung von Halbleiterwafern mit hohem Durchsatz bietet RENA die "Evolution" an, eine vollautomatische lineare Nassbank. Mehrere Oberflächenbehandlungsprozesse wie Reinigen, Ätzen, Resiststriping und Trocknen können mit der "Evolution" durchgeführt werden. Diese Chemiestation ist flexibel und modular aufgebaut, verfügt über einen robusten Transferroboter und kann entsprechend Ihrer spezifischen Prozessabläufe angepasst werden. Die "Evolution" ermöglicht die Stapelverarbeitung von gleichzeitigen Waferchargen sowie die Trocken-zu-Trocken-Verarbeitung.

Hohe Produktionsausbeute, niedrige Betriebskosten und hervorragende Prozesskontrolle sind die Hauptmerkmale dieser Plattform. Diese überragende Prozesssteuerung wird durch die IDX Flexware-Software erreicht, eine der fortschrittlichsten in der Halbleiterindustrie mit einzigartigen Funktionen und Möglichkeiten. Spezialisierte Prozesstanks wie TruEtch, FluidJet und SiEtch sowie Ultraschall- und Megasonic-Tanks und der patentierte Genesis Marangoni-Trockner können in die "Evolution" integriert werden, um die Prozessspezifikationen des Kunden zu erfüllen.

Alle RENA-Systeme sind konform mit der SECS/GEM-Schnittstelle des Werksbetreibers.