semiconductor wafer

Revolution+

Kompakte automatisierte Nassbank für mehrstufige Prozesse

Für mehrstufige Halbleiterprozesse bietet RENA die kompakte Revolution+ an, eine flexible, automatisierte Nassbank mit einem zentralen Drehroboter und bis zu drei Prozess- und drei Spültanks sowie integrierter Trocknung. Diese Plattform ist für eine effiziente Oberflächenbehandlung, einschließlich Ätzen, Reinigen und Resiststrippen konzipiert und eignet sich sowohl für FEoL- als auch BEoL-Anwendungen. Mit der RENA-Software bietet der Revolution+ eine erweiterte Steuerung- und Prozessüberwachung. Spezielle Konfigurationen, wie z. B. das patentierte Metallätzen (TruEtch), können je nach Kundenanforderung integriert werden. Die Revolution+ kombiniert eine platzsparende Stellfläche mit geringem Wasser- und Chemikalienverbrauch und bietet so eine hocheffiziente, kostengünstige Lösung.

Eigenschaften

  • Bis zu 70.000 Wafer pro Minute bei minimalen Platzbedarf
  • 150mm- und 200mm-Wafer gleichzeitig
  • Effizienter Rotationsroboter
  • Option für SECS/GEM-Schnittstellen
  • Trocken-zu-Trocken möglich
  • ISO3/Klasse 1 Reinraumumgebung
  • Fab Integration über Loadports oder automatische/manuelle Schublade
  • Präzise Prozesssteuerung
  • Geringer Wasser- und Chemikalienverbrauch durch überlegene Flüssigkeitskontrolle und Tankdesign
Theo-Moissidis-Head-of-Sales
VP Sales
Theo Moissidis
ZuständigZuständig für folgende Länder:
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