12. 06. 2026
Revolution+ | Die nächste Generation der Nassprozess-Technologie

Auf der CS MANTECH 2026 in Portland präsentierte RENA Technologies seine innovative Revolution+ Nassprozessanlage sowie die bewährten Technologien FluidJet® und TruEtch®. Während der Messe informierten sich zahlreiche Besucher darüber, wie die Revolution+ den steigenden Anforderungen der Halbleiterfertigung mit hoher Prozessflexibilität, Produktivität und Zuverlässigkeit gerecht wird.
Revolution+ – Die nächste Generation der Nassprozessierung
Die nasschemische Anlage RENA Revolution+ wurde für die wachsenden Anforderungen in der Halbleiterfertigung, im Advanced Packaging, bei MEMS, Leistungshalbleitern und Verbindungshalbleitern entwickelt. Sie vereint hohe Durchsätze, präzise Prozessführung und modulare Skalierbarkeit in einer einzigen Plattform. Durch die Kombination modernster nasschemischer Prozesse mit einer kompakten Anlagenarchitektur unterstützt die Revolution+ Hersteller dabei, ihre Produktivität zu steigern und gleichzeitig Betriebskosten zu senken.
Die Vorteile der Nassprozessanlage Revolution+ im Überblick:
Leistungsstarke nasschemische Prozesse für Halbleiteranwendungen
Höchste Flexibilität durch modulare Anlagenkonfigurationen
Verbesserte Ausbeute und erhöhte Prozesssicherheit
Reduzierter Chemikalienverbrauch und geringere Betriebskosten
Zukunftssichere Fertigungslösungen für Advanced Packaging und Technologien der nächsten Generation
Gemeinsam Innovationen vorantreiben
Wir haben die inspirierenden Gespräche, wertvollen Einblicke und neuen Kontakte während der Messe sehr geschätzt. Veranstaltungen wie die CS MANTECH zeigen eindrucksvoll, wie stark die Branche von Innovation, Nachhaltigkeit und technologischer Exzellenz geprägt ist.
Falls Sie keine Gelegenheit hatten, uns auf der Messe zu besuchen, stellen wir Ihnen die Möglichkeiten der Revolution+ Plattform gerne persönlich vor und zeigen auf, wie RENA Technologies Ihre Fertigungsziele unterstützen kann.
Kontaktieren Sie unser Team, um mehr über die Revolution+, FluidJet® und TruEtch® Technologien zu erfahren und die Zukunft der nasschemischen Halbleiterfertigung kennenzulernen.gies