Erfolgreiche Teilnahme am European CMP & WET Users Group Spring Meeting 2026 in Halle

Das European CMP & WET Users Group Spring Meeting 2026 in Halle bot auch in diesem Jahr eine hervorragende Plattform für den intensiven fachlichen Austausch innerhalb der Halbleiterindustrie. Experten, Anwender und Technologieanbieter kamen zusammen, um aktuelle Herausforderungen, innovative Technologien und zukünftige Entwicklungen in der CMP- und Nassprozessierung sowie der Nassbearbeitung zu diskutieren.

Im Fokus standen insbesondere Verbindungshalbleiter wie Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN) und Indiumphosphid (InP), die eine zentrale Rolle für zahlreiche Zukunftsanwendungen spielen. Mit ihrer zunehmenden Verbreitung steigen auch die Anforderungen an stabile, effiziente und flexible Nassprozesse und nasschemische Anlagen entlang der gesamten Prozesskette.

Ein zentrales Diskussionsthema war die Frage, wie sich höchste Prozessqualität mit Wirtschaftlichkeit und Flexibilität vereinen lässt – von Ätz- und Reinigungsprozessen bis hin zu innovativen Trocknungslösungen in der Nassbearbeitung.

RENA Technologies präsentierte in diesem Umfeld moderne Ansätze für die Nassprozessierung und nasschemische Anlagen. Im Mittelpunkt stand die Revolution+ Plattform, die Batch-Prozesse mit automatisiertem Wafer-Handling kombiniert und sich flexibel an unterschiedliche Anforderungen anpassen lässt. Durch ihr modulares Konzept ermöglicht sie die effiziente Integration verschiedener Prozessschritte bei gleichzeitig reduziertem Platzbedarf und optimiertem Ressourceneinsatz.

Insbesondere für Forschungsumgebungen und Pilotlinien bietet die Plattform eine zuverlässige Basis für reproduzierbare Prozesse, beispielsweise in den Bereichen Photonik, RF-Technologien und Leistungselektronik.

Darüber hinaus erhielten die Besucher Einblicke in den ACE-Prozess von RENA Technologies, der neue Möglichkeiten beim chemischen Ätzen von SiC eröffnet und innovative Ansätze in der Bearbeitung anspruchsvoller Materialien innerhalb moderner nasschemischer Anlagen aufzeigt.

Die Veranstaltung bot zahlreiche Gelegenheiten für persönliche Gespräche und den Austausch über aktuelle Trends und zukünftige Entwicklungen. RENA Technologies blickt auf eine erfolgreiche Teilnahme zurück und bedankt sich für die vielen spannenden Gespräche vor Ort in Halle.

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