RENA Convergence – Fortschrittliche Nassprozessplattform für High-End-Waferbearbeitung

Convergence ist RENA’s High-Performance-Plattform für anspruchsvolle nasschemische Prozesse in der Halbleiterfertigung. Mit Präzision und Effizienz erfüllt sie die komplexen Anforderungen moderner 200 mm- und 300 mm-Wafer Fabs.

Die Waferbearbeitungsplattform Convergence bietet:

• Hochoptimierter Durchsatz und Prozesshomogenität durch strömungs- und geometriestechnisch perfektionierte Module
• Modularer Anlagenaufbau – skalierbar für verschiedene Produktionskapazitäten und flexibel anpassbar an Prozessanforderungen
• Volle SECS/GEM-Kompatibilität für nahtlose Einbindung in Fab-Automatisierungssysteme
• RENA Smart Software mit integrierter Prozesssteuerung, Safety Layern und modernster User-Interface-Technologie
• Serviceorientierte Konstruktion für minimale Stillstandzeiten und maximale Anlagenverfügbarkeit

Die Nassbank Convergence vereint fortschrittlichste Prozessarchitektur mit anpassbarer Funktionalität – ideal für Anwendungen wie Ätzen, Reinigen, Resiststrippen und Trocknen in der Front- und Back-End-Fertigung.

Von Saphir über Siliziumkarbid bis zu klassischem Silizium: Die nasschemische Anlage Convergence verarbeitet eine Vielzahl von Substratmaterialien zuverlässig und reproduzierbar – bei gleichbleibend hoher Prozessqualität über alle Waferdicken hinweg.

Mit der Waferbearbeitungsplattform Convergence setzen Sie auf eine zukunftssichere Plattform, die sich in Ihre bestehenden Produktionslinien integriert und technologische Komplexität beherrschbar macht.

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